光膜的制作工藝是怎樣的?
光膜的制作工藝多樣,常見的有物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、化學(xué)液相沉積等方法。物理氣相沉積通過(guò)真空鍍膜機(jī),依據(jù)膜料氣化方式又分多種技術(shù);化學(xué)氣相沉積利用氣態(tài)先驅(qū)反應(yīng)物經(jīng)化學(xué)反應(yīng)成膜;化學(xué)液相沉積雖工藝簡(jiǎn)單成本低,但存在膜層厚度難控等問題。這些工藝各有特點(diǎn),在不同的應(yīng)用場(chǎng)景中發(fā)揮著作用,滿足了多樣化的光膜制作需求 。
物理氣相沉積(PVD)中,熱蒸發(fā)是在真空環(huán)境下加熱原材料,使其氣化后在基片表面凝結(jié)成膜。這種方式成膜速率較高,能滿足一些對(duì)效率有要求的生產(chǎn)。而濺射則是通過(guò)高速正離子轟擊膜料表面,讓分子或原子逸出并在被鍍件表面形成薄膜,所成膜層致密。離子鍍結(jié)合了熱蒸發(fā)與濺射的優(yōu)點(diǎn),離子輔助鍍更是在熱蒸發(fā)基礎(chǔ)上增設(shè)離子發(fā)生器,轟擊生長(zhǎng)的膜層來(lái)提升穩(wěn)定性與光學(xué)機(jī)械性能。
化學(xué)氣相沉積(CVD),憑借氣態(tài)先驅(qū)反應(yīng)物間的化學(xué)反應(yīng)生成固態(tài)薄膜,沉積速率快,可滿足大規(guī)模生產(chǎn)需求。但它需要較高溫度,對(duì)先驅(qū)反應(yīng)物也有特定要求,同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生副產(chǎn)物,在生產(chǎn)時(shí)需要額外的處理工序。
化學(xué)液相沉積(CLD)雖然操作簡(jiǎn)單、成本低廉,不過(guò)其膜層厚度難以精確控制,強(qiáng)度也欠佳,獲取多層膜更是困難,還容易產(chǎn)生污染問題,這使得它在現(xiàn)代生產(chǎn)中逐漸較少被使用。
除了上述主流工藝,還有離子束輔助沉積法、反應(yīng)離子鍍膜法、氣相混合蒸發(fā)法、溶膠 - 凝膠法等。離子束輔助沉積法能在低溫下成膜并改善薄膜性能,但能量束密度不均勻限制了其應(yīng)用;反應(yīng)離子鍍膜法所成膜與基片附著牢固,卻因設(shè)備成本高而使用受限;氣相混合蒸發(fā)法能通過(guò)氣相混合獲得漸變折射率膜層;溶膠 - 凝膠法通過(guò)前驅(qū)體溶液的水解、聚合等反應(yīng)制備薄膜。
總之,光膜制作工藝豐富多元,每種工藝都有其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)與局限。在實(shí)際應(yīng)用中,需要依據(jù)光膜的具體用途、性能要求、成本預(yù)算等多方面因素,綜合考量并選擇最合適的制作工藝 。
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