影響真空鍍膜性能的因素有哪些？

影響真空鍍膜性能的因素主要有：

1、蒸發(fā)速率對蒸鍍涂層的性能影響

蒸發(fā)速率的大小對沉積膜層的影響比較大。由于低的沉積速率形成的涂層結構松散易產大顆粒沉積，為保證涂層結構的致密性，選擇較高的蒸發(fā)速率是十分安全的。當真空室內殘余氣體的壓力一定時，則轟擊基片的轟擊速率即為定值。因此，選擇較高沉積速率后的沉的膜內所含的殘余氣體會得到減小，從而減小了殘余氣體分子與蒸鍍膜材粒子的化學反應故，沉積薄膜的純度即可提高。應當注意的是，沉積速率如果過大可能增加膜的內應力，致使膜層內缺陷增大，嚴重時也可導致膜層的破裂。特別是，在反應蒸鍍的工藝中，為了使反應氣體與蒸膜材料粒子能夠進行充分的反應，可選擇較低的沉積速率。當然，對不同的材料蒸鍍應當選用不同的蒸發(fā)速率。作為沉積速率低會影響膜的性能的實際例子，是反射膜的沉積。如膜厚為600x10-8cm，蒸鍍時間為3s時，其反射率為93%。但是，如果在同樣的膜厚條件下將蒸速率放慢，采用10min的時間來完成膜的沉積。這時膜的厚度雖然相同。但是，反射率已下降到68%。

2、基片溫度對蒸發(fā)涂層的影響

基片溫度對蒸發(fā)涂層的影響也大。高的基片溫度吸附在基片表面上的殘余氣體分子易于排除。特別是水蒸氣分子的排除更為重要。而且，在較高的溫度下不但易于促進物理吸附向化學吸附的轉變，從而增加粒子之間的結合力。而且還可以減少蒸氣分子的再結晶溫度與基片溫度兩者之間的差異，從而減少或消除膜基界面上的內應力。此外，由于基片溫度與膜的結晶狀態(tài)有關，在基片溫度低或不加熱的條件下，往往容易形成非晶態(tài)或微晶態(tài)涂層。相反在溫度較高時，則易于生成晶態(tài)涂層。提高基片溫度也有利于涂層的力學性能的提高。當然，基片溫度也不能過高，以防止蒸發(fā)涂層的再蒸發(fā)。

3、真空室內殘余氣體壓力對膜層性能的影響

真空室內殘余氣體的壓力對膜性能的影響較大。壓力過高殘余氣體分子不但易與蒸發(fā)粒子碰撞使其人射到基片上的動能減小影響膜的附著力。而且，過高的殘余氣體壓力還會嚴重影響膜的純度，使涂層的性能降低。

4、蒸發(fā)溫度對蒸鍍涂層的影響

蒸發(fā)溫度對膜性能的影響是通過蒸發(fā)速率隨溫度變化而表現(xiàn)出來的。當蒸發(fā)溫度高時，汽化熱將減小。如果膜材在蒸發(fā)溫度以上進行蒸發(fā)時，即使是溫度稍有微小的變化，也可以引起膜材蒸發(fā)速率的急劇變化。因此，在薄膜的沉積過程中采取精確的控制蒸發(fā)溫度，避免在蒸發(fā)源加熱時產生大的溫度梯度，對于易于升華的膜材選用膜材本身為加熱器，進行蒸鍍等措施也是非常重要的。

5、基體與鍍膜室的狀態(tài)對涂層性能的影響

基體與鍍膜室的清潔程度對涂層的性能影響是不可忽略的。它不但會嚴重影響沉積膜的純度，而且也會減小膜的附著力。因此，對基體的凈化，對真空鍍膜室及其室內的有關構件如基片架)進行清潔處理和表面去氣均是真空鍍膜工藝過程中不可缺少的過程。