pvd鍍膜是怎樣的工藝
2、它是一種蒸發(fā)真空鍍膜技術(shù),由蒸發(fā)、運輸、反應、沉積四個物理反應完成材料鍍膜的過程,可以說是一種替代電鍍的過程。
3、PVD即物理氣相沉積工藝。pvd是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。
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